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產(chǎn)品簡介
牛津EDX 二手 X-Max 80平方 能譜儀 Max系列能譜儀采用新一代硅漂移型探測器(SDD)，配備大面積晶體和低噪音電子元器件，顯著提升了分析速度和探測靈敏度。其最大計數(shù)率高達1,500,000cps，適用于高速面分析及定量分析，尤其在分析條件下，大面積晶體（100mm²和170mm²）能夠大幅提高計數(shù)率。
詳細介紹
儀器型號：牛津EDX 二手 X-Max 80平方 能譜儀
生產(chǎn)廠家:英國牛津儀器公司
工作原理主要技術(shù)指標：
能譜儀與場發(fā)射電鏡聯(lián)用，高能電子入射到樣品表面，激發(fā)出X射線，能譜儀探頭緊靠樣品，高效收集X射線，進行快速元素定性、定量分析。
探測器：SDD硅漂移電制冷探測器
能量分辨率：MnKa優(yōu)于127eV
元素分析范圍：Be4—Cf98
主要用途：
與場發(fā)射電鏡SEM聯(lián)用，進行材料微區(qū)成分分析，單顆粒自動識別及成分形貌分析。
牛津EDX 二手 X-Max 80平方 能譜儀Max系列能譜儀，有效晶體面積為 40mm2,65mm2,100mm2以及170mm2，是新一代硅漂移型探測器（SDD)，配有大面積晶體和低噪音電子元器件，分析速度和探測靈敏性都有大幅提升。
速度 - 低噪音電子元器件和X4脈沖處理器的結(jié)合，使Ultim Max能夠在1,500,000 cps的計數(shù)率下對樣品進行面分析，并在400,000 cps計數(shù)率下進行精確定量。
靈敏度 - 晶體尺寸有著很大影響。使用Ultim Max的大面積晶體（100 mm2和170 mm2），可大幅提高分析條件下的計數(shù)率。
X-MaxN 為低能端元素的分析做了巨大的優(yōu)化——無論何種尺寸，表現(xiàn)出優(yōu)異的低能端分析性能
所有尺寸的能譜儀均可保證檢測到Be，可獲得SiLI峰的面分布
超大面積的能譜儀——均具有優(yōu)異的低能端分析性能
優(yōu)異的空間分辨率
高空間分辨率，X射線擴展區(qū)域更小大面積能譜儀可以在低加速電壓及低束流下采集X-射線
納米尺度的特征可以更好的被檢測到
超大面積的能譜儀——使高級的納米分析成為可能
150 mm2 的能譜儀比小晶體面積的優(yōu)勢在哪里？
舉例為證。加速電壓20kV，束流不到2nA時，150 mm2 的能譜儀每秒即可輸出200,000的計數(shù)。而使用10 mm2 的能譜儀時，需要近20nA下才可達到相同的計數(shù)率。下圖顯示不同束流下的典型計數(shù)率，20kV下分析純Mn時，探測器檢出角30°且距樣品45mm。使用大面積能譜儀，無需增加束流即可極大地增大計數(shù)率。也就是說在低束流下，保證高空間分辨率及低輻照損傷的同時可以獲得足夠多的計數(shù)。左圖顯示束流增加對改善圖像質(zhì)量的影響。
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束流對納米材料分析的影響
當使用晶體面積小的能譜儀，需要高束流來滿足足夠的計數(shù)率，但會損害空間分辨率。超大面積能譜儀X-MaxN 150可以在低束流即高空間分辨率下獲得足夠多計數(shù)，因此可以成功實現(xiàn)納米材料的檢測與分析。
右圖：納米結(jié)構(gòu)在5kV下的X-射線面分布。計數(shù)率相同時，150mm2的能譜儀所需束流更低，意味著空間分辨率足夠高可以分辨出納米尺度的變化，且極大地減弱了樣品的輻照損傷。相反，10mm2的能譜儀則需要更高的束流，卻會嚴重損害空間分辨率，使得面分布圖像模糊不清。
右圖：在0.2 nA, 3 kV下使用150 mm2 X-MaxN 的能譜儀對記憶合金中的納米結(jié)構(gòu)進行分析?？梢杂^察到FeLa，NiLa及CuLa峰顯示出的納米結(jié)構(gòu)分布差異，zei小可以區(qū)分出20nm寬度的結(jié)構(gòu)。