Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150

一、产品简介

Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm*工艺炉管和加热系统设，允许工艺温度达到 1850 ℃。

此外，Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。

Centrotherm 新一代SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺。

Centrotherm Activator 150-5 是为研发工作而特制的，而Centrotherm Activator 150-50专为大批量生产设计。

广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力。

二、典型应用

SiC器件高温退火 （注入后）

GaN器件退火

大面积石墨烯生长

SiC表面制备

三、产品特性

性能和优势

高活化

小表面粗糙度

最大温度可达 1850 ℃