等離子清洗機離子體清洗清洗優(yōu)點，在管狀結(jié)構(gòu)可以通過達因特的腔內(nèi)沉積技術(shù)的應(yīng)用實現(xiàn)。通過將管子置于空心陰極中，等離子體得以維持，并允許材料沉積到管狀結(jié)構(gòu)的id上。通過精確地控制過程壓力和射頻頻率和持續(xù)周期，不同的管徑和長度可以實現(xiàn)反應(yīng)物擴散。達因特的應(yīng)用程序特定的氣歧管的設(shè)計是用來優(yōu)化所需的沉積均勻性。

等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。