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島津應用：通過頂空GC/MS法測定藥品殘留溶劑
閱讀：1283 發(fā)布時間：2016-8-9
通過頂空GC/MS法測定藥品殘留溶劑
–FID 同時測定–
在藥品殘留溶劑分析中經(jīng)常采用頂空氣相色譜法（GC-FID），但該方法定性能力不夠。而氣相色譜質譜儀（GC-MS）可通過質譜進行定性分析，對目標溶劑附近的峰或目標溶劑之外的未知峰進行識別和判定。使用檢測器分流系統(tǒng)可在一次測定中同時得到FID數(shù)據(jù)和MS數(shù)據(jù)。本文向您介紹使用該系統(tǒng)對藥品殘留溶劑進行分析的示例。
圖為島津GCMS-QP2020/FID 檢測器分流系統(tǒng)的示意圖。參考美國藥典（USP）通則<467>的測定方法設定頂空參數(shù)。在色譜柱出口執(zhí)行FID和MS分流。使用全掃描模式進行MS測定。使用島津先進流量技術軟件對分流比進行了優(yōu)化。
島津GCMS-QP2020/FID 檢測器分流系統(tǒng)的示意圖
了解詳情，敬請點擊《通過頂空GC/MS 法測定藥品殘留溶劑》
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