等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质，它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体，利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间，空间物理，地球物理等科学的进一步发展提新的技术和工艺。
半导体等离子去胶机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果?？捎糜诠饪探夯一?残胶去除和表面处理，该设备能在不破坏晶片和其他所用材料的外观特性、热力学特性和电气特性的前提下，清洗和去除晶片表面的有害杂质，这对于通用性非常重要，半导体元件的稳定性和集成度。否则会对半导体元器件的性能指标造成严重的问题和干扰，严重影响产品合格率，阻碍半导体元器件的整体发展。
等离子去胶机主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。
半导体等离子去胶机频率|真空度|功率|氧气流量的调整
将待拆模插入石英舟内平行气流方向推至真空室两电极之间，抽真空至1.3Pa，引入适量氧气，保持反应室压力在1.3-13Pa，加高频功率，电极间产生薰衣草辉光放电。通过调节功率、流量等工艺参数，可获得不同的脱胶率。当去除胶膜时，辉光消失。
1、调整合适的频率：
频率越高，氧越容易电离形成等离子体。如果频率过高，使电子振幅短于其平均自由程，电子与气体分子碰撞的概率就会降低，导致电离率降低。通常，公共频率为13.56MHz和2.45GHz。
2、调整合适的真空度：
适当的真空度可以使电子运动的平均自由程更大，因此从电场中获得的能量更大，有利于电离。此外，当氧气流量必须准时时，真空度越高，氧气的相对份额越大，活性颗粒浓度越大。但如果真空度过高，活性粒子的浓度反而会降低。
3、调整适当的功率：
关于一定量的气体，功率大，等离子体中活性粒子的密度也高，脱胶速度也快；但当功率增加到一定值时，响应消耗的活性离子达到饱和，脱胶速度随功率的增加不明显增加。由于功率大，衬底温度高，需要根据技术要求调整功率。
4、氧气流量的调整：
氧气流量大，活性颗粒密度大，脱胶速率加快；但如果通量过大，离子的复合几率增加，电子运动的平均自由程缩短，电离强度反而降低。如果回转室的压力不变，流量增加，则还增加了被抽出的气体量，也增加了不参与回转的活性颗粒量，因此流量对脱胶率的影响不是很显著。
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