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产地类别	进口	价格区间	100万-200万
应用领域	综合

SAL1000G原子层沉积系统特点：

- 多样性 -

· 真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。

· 前驱体标配两组阀门和气瓶。

· 可选择将前驱体加热至200摄氏度。

· 可选择基片自动旋转支架。

· 可选择粉体沉积配件。

· 可选择经济实惠的废气处理设备。

- 表现 -

· 保证基片表面上的每个均匀原子层针孔自由层沉积。

· 通过阶梯覆盖沉积在不均匀或3D形状的表面。

· 与CVD和PVD相比，可以获得更好的沉积，特别是对于具有更高纵横比和多孔沉积材料。

- 操作界面友好 -

· 触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程，并检查每个驱动系统的运动。

· 可进行自动沉积，并在沉积完成后自动完成N2排放。

· 手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。

- 安全性 -

· 这是具有各种互锁功能的高级设备。

- 具有轻柔关闭功能的顶部舱口使用户可以轻松地装载和卸载基片。

SAL1000G原子层沉积系统技术参数：

性能
真空度		到达压力	≤5Pa
成膜性能		膜厚分布	≤± 3% （φ 100mm）
设备构成
设备型号		SAL1000G
成膜方向		下表面
基底尺寸		φ 100mm or 4 inch Max
基底加热器温度		350℃ Max
前驱体数		2
前驱体温度		150℃ Max
净化气体		N2 （气体控制：带流量计针型阀）
手套箱		有机玻璃，真空-氮气吹扫式
真空泵		162L/min 旋片式真空机械泵
重量		本体：50kg，手套箱：35kg，真空泵：27kg
可选配置		基片自动旋转支架粉体沉积配件废气处理设备前驱体加热器- 200℃
安装要求
电源要求	电源	3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz
	接地	＜100Ω
	线缆	5m 附赠
N2吹扫气体	供给压力	0.1 ~.0.2Mpa
	接口	1/4 Swagelok
压缩空气	供给压力	0.6 ~0.8Mpa
	接口	φ6mm 接口
真空泵排气口	排气口	KF-25法兰
设备排气口	排气口	φ38mm x L28软管适配器
安装尺寸		W1000 x D700 x H900