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| 价格区间 | 面议 | 应用领域 | 电子/电池,航空航天,综合 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 |
极紫外 （EUV） 球面反射镜
超抛光基片上的钼/硅多层镀膜
13.5nm 下可实现的大反射
设计用于 EUV 光束聚焦应用
适用于 HHG 应用的窄通带
极紫外 （EUV） 球面反射镜 具有多层钼/硅镀膜，在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它们专为 5o 入射角设计，并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS，可大程度地降低散射。这对 EUV 波长*，因为 EUV 波长的散射比长波长更多. EUV 球面反射镜的通带非常窄，约为 0.5nm，确保只会在高谐波生成 (HHG) 应用中反射 13.5nm 的关注谐波。EUV 球面反射镜的典型应用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 纳米加工.
注意:
每个反射镜均附运行样本的测试数据.
极紫外 （EUV） 球面反射镜产品信息
| DWL (nm) | Dia. (mm) | EFL (mm) | 涂层 | 涂层规格 | 产品编码 |
| 13.5 | 25.40 | 250.00 | Mo/Si Multilayer Layer: Silicon | Rabs>60% @ 13.5nm | #11-730 |
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