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[供应]AZ系列-安智AZ光刻胶、去胶液、显影液等
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  • AZ系列-安智AZ光刻胶、去胶液、显影液等
货物所在地:
北京北京市
产地:
进口
更新时间:
2021-04-04 21:00:49
有效期:
2021年4月4日 -- 2021年10月4日
已获点击:
3823
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产品简介

光刻胶又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,得到所需图像。

详细介绍

安智AZ光刻胶,去胶液,显影液等相关产品。
产品型号:
1、AZ 1500系列高感光度标准G线正型光刻胶:AZ1500
2、AZ 6100 系列高感光度高热稳定性G线正型光刻胶:AZ6112AZ6124、AZ6130
3AZ 3100 系列高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶:AZ3100
4、AZ GXR-600 系列高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶:AZ GXR-601
5AZ 5200E 系列应用于Lift-off工艺图形反转正/负可转换型光刻胶:AZ5206E、AZ5214E、AZ5218EAZ5200NJ
6AZ MIR-700 系列中高解像度I线正型光刻胶:AZ MIR-701AZ MIR-703
7、AZ MIR900 系列厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶:AZ MIR-900AZ MIR-950
8、AZ DX3200P 系列应用于通孔图形的KrF正型光刻胶:AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶:AZ DX2546PAZ DX5200P
10AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶:AZ 10XT(220cP)10XT(520cP)
12AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶:AZ PLP-30AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层:AZ AQUATAR AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR--45 AZ AQUATAR-

14、Non PFOSNon PFOA的顶部防反射涂层
15AZ 底部防反射涂层材料:AZ BARLi-、AZ KrF-BARC SERIESAZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料,AZ R200 & R500 涂布材料

17AZ 8100 系列光刻胶:AZ 8112AZ8100DB5
18、辅助化学品系列:AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影液和AZ 303N显影液

19、清洗液/ 稀释液:AZ EBR7030AZ 5200Thinner(1500Thinner)
20、HMDSAZ AD PROMOTOR
21、辅助化学品系列:正型光刻胶剥离液(胺型)AZ Remover 100AZ Remover 200,正型光刻胶剥离液(溶剂型)AZ Remover 700、AZ 400T Stripper(也可用于干膜和负胶)AZ Remover 810S

 

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