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四川成都重慶攝像頭模組真空等離子清洗行業(yè)應(yīng)用

閱讀:2454        發(fā)布時(shí)間:2019-8-24

品牌: 達(dá)因特

類(lèi)型: 真空在線等離子表面改性機(jī),點(diǎn)膠、覆膜、涂覆、印刷前處理

  等離子體--并不神秘的物質(zhì)第四態(tài)!

  自然界中存在我們非常熟悉的固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)物質(zhì)。持續(xù)為物質(zhì)提供能量,物質(zhì)溫度會(huì)升高,物質(zhì)的狀態(tài)也會(huì)從“固態(tài)→ 液態(tài)”,“液態(tài)→ 氣態(tài)”,“氣態(tài)→ 等離子態(tài)”。

  物質(zhì)是由原子構(gòu)成,原子由帶正電的原子核和圍繞著原子核的帶負(fù)電的電子組成。當(dāng)持續(xù)提供能量,加熱至足夠高的溫度時(shí),外層電子擺脫原子核的束縛成為自由電子,這個(gè)過(guò)程稱(chēng)為“電離”;而物質(zhì)變成的由帶正電的原子核與帶負(fù)電的電子組成,當(dāng)然,物質(zhì)里面還有活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等,是一團(tuán)均勻的“漿糊“,所以等離子體也稱(chēng)為電漿。電漿中,正負(fù)電荷總量是相等的,所以總體是呈電中性,稱(chēng)為等離子體。

  等離子體是一種高能量不穩(wěn)定的狀態(tài)。利用這種高能量而又不穩(wěn)定的狀態(tài),等離子體有各種各樣的應(yīng)用。

  宇宙中99%的可見(jiàn)物質(zhì),其實(shí)都處于等離子體狀態(tài),閃電、極地的極光、星云等等,還有我們?nèi)粘I钪械臒晒?、霓虹光這些也是等離子體。等離子體早在1928年由科學(xué)家Langmuir提出。

  等離子體的應(yīng)用非常非常廣泛,從核聚變到等離子電視,清洗手機(jī)蓋板,從等離子薄膜濺射到工業(yè)廢氣處理,從等離子切割焊接到生物醫(yī)療領(lǐng)域的消毒。

  我們目前所說(shuō)的,是集中在等離子提高表面附著力,或者說(shuō)等離子表面處理的應(yīng)用。就是利用等離子體的高能量、不穩(wěn)定的特點(diǎn),當(dāng)固體材料表面接觸到等離子體后,表面的微觀結(jié)構(gòu)、化學(xué)性質(zhì)、能量都會(huì)發(fā)生變化。

  等離子表面改性(等離子表面處理),就是利用等離子體的特點(diǎn),對(duì)需要處理的固體材料表面進(jìn)行清潔、活化、激活,從而實(shí)現(xiàn)改變表面微觀結(jié)構(gòu)、化學(xué)性質(zhì)、能量的目的。

等離子清洗的應(yīng)用已經(jīng)非常非常廣泛,汽車(chē)制造、手機(jī)制造、玻璃光學(xué)、材料科學(xué)、電子電路、印刷造紙、塑料薄膜、包裝技術(shù)、醫(yī)療醫(yī)用、紡織工業(yè)、新能源技術(shù)、航天軍工、手表首飾等等。

 

應(yīng)用:

樹(shù)脂玻璃表面、IC芯片封裝前、半導(dǎo)體硅晶元、LCD制造工藝中、偏光片排線基位LED及線路板IC綁定前COB/COG/COF(打金線)、SMT前、指紋模組、攝像頭模組、耳機(jī)振膜、手機(jī)中框、ITO玻璃、藍(lán)寶石襯底、集成電路引線支架、PCB板盲孔內(nèi)鉆污垢、鋰電池隔膜、電子連接器、音箱配件、特氟龍PTFE料、塑料配件、高分子薄膜、馬達(dá)電機(jī)配件、LCD的ARRAY(玻璃加工)、LCD的CF(玻璃加工)、鋁箔、銀膜、汽車(chē)點(diǎn)火線圈、其它手機(jī)配件等離子清洗改性除靜電。

特點(diǎn):

A.超大的處理空間,提升處理產(chǎn)能。

B.可按照客戶(hù)要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶(hù)要求。

C.維修成本低,便于客戶(hù)成本控制。

D.高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持。

E.全面安全防護(hù):過(guò)載防護(hù)功能,短路斷路報(bào)警防護(hù)功能。

F.*放電技術(shù):特殊處理及特殊結(jié)構(gòu)的放電裝置,確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。

G.產(chǎn)品部件:產(chǎn)品部件采用國(guó)內(nèi)外品牌,確保設(shè)備性能*。

H.可使用氣體:Ar/O2/N2/H2/CF4。

在攝像頭模組生產(chǎn)工藝過(guò)程中,等離子清洗(Plasma)工藝能顯著提高攝像頭模組質(zhì)量,在新一代攝像頭模組生產(chǎn)過(guò)程中,等離子清洗是*的環(huán)節(jié)。等離子清洗廣泛應(yīng)用于攝像頭模組DB、WB及HM前后環(huán)節(jié),極大提高攝像頭模組綁定、貼合強(qiáng)度及均勻性。

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