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什么是磁控離子濺射儀？
磁控離子濺射儀
產(chǎn)品介紹：
離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發(fā)研制成高科技產(chǎn)品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌，從而提高試樣的導電性和導熱性。該儀器為全閉環(huán)真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運行狀態(tài)，保證儀器安全穩(wěn)定運行。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質(zhì)量。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應，高性能的平面磁控濺射陰極可實現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別，可滿足現(xiàn)代分析實驗要求。可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質(zhì)結等。
應用領域：
光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術應用于光學薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃；
微電子領域：用于沉積具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領域：磁控濺射技術在這些領域的研究中發(fā)揮著重要作用；
