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Micropatterning Photomask

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更新时间:2019-01-29 11:36:59浏览次数:384

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产品简介

Micropatterning Photomask 光掩膜是一种石英掩膜,其镀铬层设计用于微模式实验。用于玻璃载玻片上的微图案印刷,具有深紫外特性。

详细介绍

Micropatterning Photomask

4Dcell光掩膜是一种石英掩膜,其镀铬层设计用于微模式实验。用于玻璃载玻片上的微图案印刷,具有深紫外特性。Micropatterning Photomask

The micropatterning photomask is sold in the micropatterning kit and by itself to make your own micropatterns. It is a 6 cm x 6 cm square that can be used with the Masker for the printing step of the micropatterns.

The standard shapes offered by 4Dcell are the disks, lines, squares, rectangles, triangles and grids.
You can also ask for a customized shape that we can design for you. The formats accepted for the design of a customized photomask are the following: DXF, GDSII, EPS or PDF.micropatterning photomask是在micropatterning kit中出售的,它可以自己制作自己的micropatterns。它是一个6cm×6cm的正方形,可以与掩模一起用于微图案的打印步骤。
4Dcell提供的标准形状是磁盘、直线、正方形、矩形、三角形和网格。
你也可以要求一个定制的形状,我们可以为你设计。设计自定义光掩膜所接受的格式如下:DXF、GDSII、EPS或PDF。

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