气氛压力烧结炉的主要参数一般为2000℃和10MPa压力以下，由于其压力较低导致设备结构形式与HIP相比差异较大，成本较低，因而在局部领域获得了广泛的应用，主要应用于硬质合金、高比重合金、氮化硅、氧化铝、氮化硼、碳碳复合材料等多种高新技术材料领域。该设备可作常压（或真空）烧结、气氛压力烧结和反应烧结。

气氛压力烧结炉按照安装方式可分为立式和和卧式，按照大小可分为实验室型、工程型，能够根据用户特定需求进行专门设计制造。气氛压力烧结炉主要由主机系统、液压系统、真空压力系统、冷却系统、加热系统、电气系统等构成。

产品规格：立式：热区直径Φ100~1000mm，热区高度150~1500mm，压力10MPa。

卧式：截面尺寸□300~800mm，热区长度600~2500mm，压力10MPa。