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我國光學(xué)薄膜精密微復(fù)制技術(shù)取得重大突破

閱讀:254      發(fā)布時間:2017-11-15
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  新華社武漢11月10日電(記者譚元斌)經(jīng)過3年科技攻關(guān),我國光學(xué)薄膜精密微復(fù)制技術(shù)取得重大突破,成功打破國外技術(shù)壟斷。這是記者10日從湖北省國防科工辦和湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所獲得的消息。
  據(jù)介紹,光學(xué)薄膜精密微復(fù)制技術(shù)是在光學(xué)薄膜基材表面精密涂布特定配方樹脂,然后在擁有特定設(shè)計納微尺度幾何結(jié)構(gòu)的雕刻輥上成型的技術(shù)。其廣泛應(yīng)用于液晶平板顯示器背光模組增亮膜和擴散膜、道路交通標識微棱鏡反光膜、液晶顯示器保護用防反射膜和防窺膜、裸眼3D顯示功能膜以及家電用仿金屬拉絲高光膜等。這些產(chǎn)品附加值高,市場需求大,關(guān)鍵技術(shù)一直掌握在國外公司手中。
2014至2016年,湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所承擔(dān)湖北省重大科技專項“光學(xué)薄膜精密微復(fù)制工藝制備關(guān)鍵技術(shù)開發(fā)及應(yīng)用”,先后開展了結(jié)構(gòu)設(shè)計、刻印樹脂配方研究和涂布工藝研究,近日已通過湖北省科技廳驗收。
  湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所相關(guān)負責(zé)人說,他們設(shè)計出特殊表面涂層微結(jié)構(gòu),開發(fā)出特殊刻印涂層樹脂配方,在光學(xué)薄膜刻印涂層背面采用防眩、防劃傷或防靜電處理,提高產(chǎn)品收益率20%以上,極大地提高了我國新材料產(chǎn)業(yè)鏈科技水平。
  據(jù)介紹,目前,這項技術(shù)已在重要國防項目中得到應(yīng)用,申報發(fā)明10件。

 

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