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CVD管式爐的應用領域以及特點

閱讀:8519發(fā)布時間:2017-9-4

  CVD管式爐應用領域:
 
  廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝,例如:碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等;也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理.
 
  產品特點:
 
  專門設計用于高溫材料沉積之用。 硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛, 可預抽真空,便于通入?yún)⒓臃磻臍怏w, CVD管式爐進口單回路智能溫度控制儀控制、溫區(qū)設計隔板結構。具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、溫區(qū)間溫度擾動孝升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長等特點,是理想的科研設備。
 
  1、外觀采用耐高溫、耐腐蝕油漆處理。
 
  2、控制臺采用智能PID數(shù)顯控制器、穩(wěn)定性好、精度高,配有電流表、結構新穎。
 
  3、爐門采用加厚、加固處理,防止變形
 
  4、爐襯采用高純氧化鋁和保溫棉,保溫效果好
 
  5、爐膛溫度時時檢測功能(不加熱情況下同樣顯示爐膛實際溫度,便于隨時觀察爐膛溫度情況)。具有過載保護和短路保護
 
  6、爐殼選用鋼板折邊焊接制成,工作室為耐火材料制成的爐膛,加熱元件置于其中,爐與殼間用保溫材料砌筑。

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