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談談CVD系統(tǒng)的組成與特點

閱讀:9607發(fā)布時間:2017-7-20

  CVD系統(tǒng)設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領域

  實驗機理:CVD成長系統(tǒng)是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學反應,從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統(tǒng)

  CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點:

  1 CVD系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式

  2 CVD系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長

  3 CVD系統(tǒng)使用計算機控制,可以設置多種生長參數(shù)

  4 CVD系統(tǒng)可以制備高質量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達數(shù)厘米,研究動力學過程

  5 CVD系統(tǒng)沉積效率高;薄膜的成分可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數(shù)毫米,可以實現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)


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