实验·研究用曝光设备MA-1400 实验·研究用曝光设备简练设计的手动式整面单次曝光装置。对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产
产品简介
详细介绍
MA-1200 DNK大日本科研实验·研究用曝光设备
MA-1200 DNK大日本科研实验·研究用曝光设备
MA-1200 DNK大日本科研实验·研究用曝光设备
实验·研究用曝光设备
- 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。
- 可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。
- 对应zui大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。
- 实验·研究用曝光设备
MA-1200 MA-1400 基板尺寸 Max 200 x 200mm
ø4" ~ ø6"Max 400 x 400mm 光源 超高压水银灯 :500W or 1kW 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW 外观尺寸及重量 本体尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm 本体重量 400kg 400kg(包含无尘机房) 光源重量 - 250kg 选购项 无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 ※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽