上海美析儀器有限公司
電感耦合等離子體質譜在半導體高純材料分析中的應用
檢測樣品：半導體高純材料
檢測項目：痕量雜質元素
方案概述：本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）在半導體行業(yè)高純材料分析方面的應用，分別討論了 IC 硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。
本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）在半導體行業(yè)高純材料分析方面的應用，分別討論了 IC 硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。
電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）是80 年代發(fā)展起來的新的檢測技術，已成為當代蕞薔有力的元素分析手段之一，其以桌越的痕量分析能力，被廣泛應用于多個領域。對痕量分析要求最高的，莫過于在半導體工業(yè)中對高純材料的雜質分析，本文對近十幾年來電感耦合等離子體質譜在半導體工業(yè)高純材料方面的分析應用做一綜述，分別討論了IC硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。
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