扫描 Kelvin Probe（开尔文探针）可以测量 CPD（接触电位差）值，评估半导体和导电材料的功函数。该技术起源于19世纪末，最早由英国科学家开尔文勋爵所提出，随着科学技术的不断进步，开尔文探针技术逐渐得到改进和完善，应用领域也不断扩大。目前，开尔文探针技术已经成为表面科学、材料科学、微电子学等领域的重要研究手段。

适用研究范围

• 材料的功函数

• 费米能级的位置

• n 或 p 型半导体

• 半导体的能隙

• 表面电势

• 表面态密度

• 表面充放电效应

• 少数载流子扩散长度

• 温度和湿度对功函数的影响

• 更多特性

探针结构图

探头由Instytut Fotonowy设计制造，具有显著优势：即使在距样品 0.5 mm 的距离下，仍能获取强信号。这使得无论样品表面粗糙还是抛光，都能够稳定使用。同时，探头设计具备透光性，允许垂直光束照射样品。振荡由电磁铁驱动，以确保精准的测量。

单点开尔文探针系统：用于研究功函数，能够精准测量样品表面特定位置的接触电位差（CPD）。

我们提供一系列高性能开尔文探针系统，旨在满足不同测试需求和应用场景，确保高效、精准的表面分析和电化学测量。无论是基础的表面功函数研究，还是高精度的电化学样品分析，我们的系统系列都能够提供全面的解决方案，助力科研人员在材料科学、电子性能测试和电化学领域取得突破性成果。每款系统都经过精心设计，确保为用户提供先进的测量精度和可靠性。

1. 扫描开尔文探针系统：用于分析样品的表面状态，能够评估表面缺陷、表面态密度等特性。

2. 电化学开尔文探针系统：这是一款创新的设备，专为直接测量与电解质接触的电化学样品电子功函数设计，无需干燥样品表面，配备了专用的电化学样品池。

3. 完整型开尔文探针系统：Fotonowy的完整型开尔文探针系统突破了接触电位差测量的关键瓶颈，实现了精确区分样品与探针功函数变化。它提供了更高精度的测量，广泛应用于表面功函数研究、电子性能测试及材料分析。