S neox Sensofar白光干涉:不受反光材料的影響
參考價(jià) | ¥ 800000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 北京儀光科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) S neox
- 產(chǎn)地 西班牙
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/7/15 14:00:00
- 訪問次數(shù) 25
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西班牙Sensofar共聚焦白光干涉儀、澤攸臺(tái)式電鏡&臺(tái)階儀&原位分析、徠卡等光學(xué)顯微鏡、RMC超薄切片機(jī)、Linkam冷熱臺(tái)
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合 |
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Sensofar白光干涉:不受反光材料的影響
一、干涉測(cè)量核心原理:光波干涉與形貌重建
S neox的干涉測(cè)量基于雙光束干涉原理:光源發(fā)出的光被分束器分為兩路,一路照射樣品表面,另一路照射參考鏡,反射后重新合并產(chǎn)生干涉條紋。樣品表面的高度差異導(dǎo)致光程差變化,進(jìn)而改變干涉條紋的相位與強(qiáng)度。通過分析條紋變化,系統(tǒng)可重建表面三維形貌810。
二、三類干涉模式的技術(shù)差異與應(yīng)用場(chǎng)景
1. 白光干涉模式(Coherence Scanning Interferometry, CSI)
原理:采用寬帶白光光源(低相干性),通過Z軸掃描捕捉干涉條紋包絡(luò)峰值位置,確定表面高度10。
優(yōu)勢(shì):
抗環(huán)境干擾:低相干性抑制雜散光,適用于車間振動(dòng)環(huán)境(>100nm振動(dòng)幅度仍穩(wěn)定)8。
跨尺度測(cè)量:縱向分辨率保持1nm,適用于光滑至中等粗糙表面(Ra 0.01–10μm)410。
典型應(yīng)用:汽車發(fā)動(dòng)機(jī)缸體珩磨紋、增材制造金屬件粗糙度分析7。
2. 相位移干涉(Phase-Shifting Interferometry, PSI)
原理:使用單色光(高相干性),通過八部位移法(8-step phase-shifting) 分步引入固定相位差(通常每步
π/2),求解高度相位方程10。
算法步驟:
plaintext
1. 采集8幅干涉圖(相位差遞增π/4)
2. 計(jì)算各點(diǎn)相位:φ = arctan[(I?-I?)/(I?-I?)]
3. 解相位包裹,還原真實(shí)高度h = (λ/4π) * φ
優(yōu)勢(shì):
亞埃級(jí)分辨率:系統(tǒng)噪聲<0.01 nm,適用于光學(xué)鏡面、晶圓超光滑表面210。
大視場(chǎng)兼容性:2.5倍物鏡下仍保持亞納米分辨率,支持12英寸晶圓全場(chǎng)測(cè)量4。
3. 擴(kuò)展相移干涉(EPSI)
創(chuàng)新融合:結(jié)合PSI高分辨率與CSI大掃描范圍優(yōu)勢(shì),實(shí)現(xiàn)0.1nm分辨率+百微米級(jí)深度掃描10。
應(yīng)用場(chǎng)景:MEMS器件深槽結(jié)構(gòu)、醫(yī)用支架表面膜厚分布測(cè)量(1.5–100μm厚度范圍)710。
干涉模式技術(shù)對(duì)比表
模式分辨率適用表面掃描深度抗振能力
PSI<0.01 nm超光滑(Ra<0.1nm)幾微米低(需隔震臺(tái))
CSI1 nm光滑-中等粗糙數(shù)百微米高
EPSI0.1 nm復(fù)雜形貌100 μm以上中高
三、Sensofar的干涉技術(shù)創(chuàng)新
參考鏡動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)環(huán)
10X/20X干涉物鏡內(nèi)置機(jī)械調(diào)節(jié)環(huán),可微調(diào)參考鏡位置,消除多波長(zhǎng)光源的色散誤差,提升全光譜測(cè)量精度10。
實(shí)時(shí)環(huán)境補(bǔ)償算法(REC)
通過振動(dòng)傳感器與算法實(shí)時(shí)修正相位偏移,使CSI模式在普通車間環(huán)境(振動(dòng)>100nm)下保持納米級(jí)重復(fù)性,無需光學(xué)隔震平臺(tái)89。
三波長(zhǎng)干涉協(xié)同
紅/綠/藍(lán)三色LED分時(shí)照明,同步獲取形貌、膜厚、折射率分布及真彩色光學(xué)特征,單次掃描實(shí)現(xiàn)多物理場(chǎng)分析59。
四、工業(yè)場(chǎng)景實(shí)證
半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測(cè)
挑戰(zhàn):5nm線寬光刻膠側(cè)壁缺陷(0.15μm殘留)需非接觸檢測(cè)。
方案:PSI模式+150倍物鏡,識(shí)別側(cè)壁粗糙度(Sa<0.8nm),較SEM效率提升5倍9。
醫(yī)用植入物拋光工藝優(yōu)化
挑戰(zhàn):CoCr股骨組件電解拋光后表面粗糙度量化。
方案:CSI模式測(cè)量DLyte工藝前后表面,Sa參數(shù)從0.12μm降至0.05μm,同步驗(yàn)證形狀公差保留(多焦面疊加技術(shù))7。
航空航天葉片涂層分析
挑戰(zhàn):鈦合金葉片86°傾角區(qū)域膜厚分布檢測(cè)。
方案:EPSI模式+Ai景深融合,42秒完成15×15mm區(qū)域掃描,厚度分辨率0.1μm69。
五、操作與精度保障策略
校準(zhǔn)溯源:出廠前經(jīng)ISO 25178標(biāo)準(zhǔn)樣塊校準(zhǔn),附帶計(jì)量證書9。
智能軟件鏈:
SensoSCAN:自動(dòng)推薦物鏡/干涉模式組合(如檢測(cè)鏡面PSI)5。
SensoPRO:支持ISO 25178參數(shù)(Sa/Sq)自動(dòng)計(jì)算及容差報(bào)告37。
環(huán)境適應(yīng)性:LED光源壽命50,000小時(shí)(激光光源的6倍),避免散斑噪聲48。
結(jié)語:干涉測(cè)量的技術(shù)代際跨越
S neox的干涉體系以光波為尺、算法為眼,在PSI的亞埃級(jí)精度與CSI的工業(yè)魯棒性間取得平衡。其八部位移法的相位解析精度、EPSI的跨尺度能力,以及REC環(huán)境補(bǔ)償,共同構(gòu)成納米計(jì)量界的“干涉三角定律”。未來隨著計(jì)算光學(xué)迭代,干涉技術(shù)將從“形貌復(fù)現(xiàn)”邁向“工藝預(yù)測(cè)”,成為智能制造的微觀決策中樞
Sensofar白光干涉:不受反光材料的影響