Otsuka大塚顯微分光膜厚儀操作簡單非接觸 · 非破壞 · 顯微、對焦、測量1秒完成 ● OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀，測試膜厚、折射率n、消光系數(shù)k、絕對反射率的新型高精度、高性價比的分光膜厚儀。適用于各種可透光膜層的測試，并有可針對透明基板去除背面反射，從而達到“真實反射率、膜厚”測試的目的。此外，軟件操作簡單、使用方便且簡化了復(fù)雜的建模流程。...

Otsuka大塚顯微分光膜厚儀操作簡單● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)

● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式

● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的絕對反射率，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）

● 單點對焦加量測在1秒內(nèi)完成

● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）

● 獨立測試頭對應(yīng)各種inline定制化需求

● 最小對應(yīng)spot約3μm

● 可針對超薄膜解析nk

●  絕對反射率分析

●  多層膜解析（50層）

●  光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）

膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射，即使是透明基板也可以實現(xiàn)高精度測量。此外，對具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨測量上面的膜。

● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體：硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料

● FPD：LCD、TFT、OLED（有機EL）

● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學(xué)材料：濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等

各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風(fēng)扇)、AND愛安得（電子天平）、SAN-EI三英(點膠閥） HOYA光源,KURABO脫泡機,USHIO牛尾照度計,Tsubosaka壺坂電機,IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機,lambda拉姆達膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚（膜厚儀、粒度儀）,Hitachi日立（掃描電鏡）,MIKASA米卡薩（旋涂設(shè)備、顯影）、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克（檢查光源）、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀）、KOSAKA小坂（臺階儀）、HORIBA堀場儀器（分析儀）、SIBATA柴田科學(xué)（環(huán)境測定）、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）、yamada山田鹵素強光燈、CEDAR思達