FZ-T-10000-H 高溫高壓光浮區(qū)單晶爐/日本CSC
- 公司名稱 上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) FZ-T-10000-H
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/4/26 19:10:57
- 訪問次數(shù) 55
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高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐
日本CSC司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達(dá)300bar,甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導(dǎo)材料單晶,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等。
模型fz - t - 10000 h -八世(vpo)電腦
鹵素?zé)粝到y(tǒng)
燈和鏡子的數(shù)量4個(gè)
鏡子數(shù)量4片
大氣
壓力
壓力0.95 MPa
真空6.7×10-3Pa (5×10-5 Torr)
室
(石英管)
常壓φ 50mm / 365 mm長/ 2mm厚
高壓φ 50mm / 365 mm長/ 5mm厚
軸密封為o型密封圈
Max。溫度2200℃
常溫1850℃
燈功率1200w (300W × 4個(gè)燈)
4,000W (1,000W x 4盞燈)
6,000W (1,500W × 4盞燈)
鏡臺(tái)/軸鏡臺(tái)與上軸垂直轉(zhuǎn)移
周圍溫差
桿面
<30℃
燈具冷卻空氣
鏡面冷卻空氣
Max。晶體長度(mm) 150
Max。進(jìn)給長度(mm) 150
生長罕見緩慢移動(dòng)0.01~300mm/hr
生長速度快移6~150mm/min
軸轉(zhuǎn)速5~100rpm
監(jiān)控CCD攝像頭和LCD
控制系統(tǒng)計(jì)算機(jī)LabVIEW / Windows 10(帶遠(yuǎn)程控制功能)
手動(dòng)Hand-control-box
①5L/min氬氣流量計(jì)(*1)
②500cc/min氧流量計(jì)
③10L/min帶壓縮機(jī)的空氣流量計(jì)
公用事業(yè)電力3相200V, 40A
水冷:3 ~ 5 l / min
尺寸(mm)主體W850×D760×H1950
控制箱W605×D760×H1700
備注:
1. 可選燈功率:150W / 500W / 750W
2. (*1)可更改其他類型的氣體和流量。
3. 質(zhì)量保證:
Crystal Systems Corporation保證自安裝之日起一(1)年內(nèi)有效,但以下情況除外
不正常使用。(1)燈(2)鏡子(3)石英管等玻璃器皿不在保修期內(nèi)。