安装条件

1、使用环境温度 25℃±15℃，湿度 55%Rh±10%Rh；

2、设备供电：AC220V，50Hz，必须有良好接地；

3、额定功率：1500w；

4、设备用气：设备腔室内需充注氩气清洗，需客户自备氩气，纯度 ≥99.99%；

5、摆放工作台尺寸要求 600mm×600mm×700mm，承重 50kg 以上；

6、摆放位置要求通风。

技术参数

1、 蒸发源数量：1钨丝篮/钨舟

2、 适用蒸发膜料：金银铜等不易被氧化的金属，碳绳；

3、 等离子溅射靶数量：1x2”

4、 适用靶材：金银铜等比重大，化学性质稳定的金属；适用尺寸φ50mm x3mm

5、 蒸发源电压：10V

6、 蒸发电流 0～100A 连续可调

7、 配 1 个钨舟、1 个钨丝篮；

8、 不锈钢样品台,直径为60mm；蒸发时使用样品台下表面及配套夹具，溅射时使用样品台上表面，直接将样品放置在平面上。

9、 样品台距离蒸发源距离20~50mm可调。当使用溅射功能时样品台应和靶面距离30mm~50mm。

10、 真空腔体为石英腔体其直径为180mm，高度为150mm；

11、 真空腔体抽气接口为 KF25；

12、 进气接口为 1/4 英寸双卡套接头，默认配不锈钢微调阀以调节进气量；

13、 显示屏为7英寸彩色触摸屏；

14、 可调节蒸发电流、溅射电流，可设置蒸发**电流值、**真空值；

15、 **?；ぃ汗?、真空过低自动切断电流；

16、 极限真空：1Pa(搭配双级旋片泵)；

17、 真空测量为电阻规真空计，其量程为：1～105Pa

注意事项

1、对于蒸镀对氧较敏感的材料，建议增配分子泵组。

2、为了达到较高的无氧环境，至少要用高纯惰性气体对真空腔体清洗 3 次。

可选配件

膜厚监测仪

1、膜厚分辨率：0.0136?（铝）

2、膜厚准确度：±0.5%，取决于过程条件，特别是传感器的位置， 材料应力，温度和密度

3、测量速度：100ms-1s/次，可设置测量范围：500000?（铝）

4、标准传感器晶体：6MHz

5、适用晶片频率：6MHz 适用晶片尺寸：Φ14mm 安装法兰：CF35

其他配件

1、钨舟、钨丝篮；

2、CY-CZK103系列高性能分子泵组（含复合真空计，测量范围10-5Pa~105Pa）；

CY-GZK60系列小型分子泵组（含复合真空计，测量范围10-5Pa~102Pa）

VRD-4双极旋片真空泵；

3、KF25真空波纹管；长度可选0.5m、1m、1.5m；KF25卡箍支架

4、膜厚仪晶振片；