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化工仪器网>产品展厅>行业专用仪器及设备>其它行业专用仪器>其它专用仪器>KT-Z1650CVD ??铺?坩埚真空蒸镀仪

KT-Z1650CVD 郑科探 坩埚真空蒸镀仪

具体成交价以合同协议为准

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公司是集研发、设计、制造、销售为一体的新材料制备设备创新型企业,如今公司的产品已经遍布国内众多实验室及学校,科探仪器已经成为老师和同学信赖的品牌。公司以科技创新为主,服务社会为宗旨,积极设计开发新型材料制备设备,奉献于教育实验和科学研究。经过长期的研发和不断的技术积累,拥有材料制备、材料测试、材料运用等,相关技术10余项,为化学、物理、材料、电子等方面;新材料制备和研发领域的科学工作者们提供了精良的设备。公司通过和院校老师、同学强强联合,形成了高效的信息技术交流平台,为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持!


高真空机组,智能供气仪,等离子清洗机,小型磁控溅射仪,小型蒸镀仪,石英管真空封口机,真空探针台

产地类别 国产 应用领域 电子/电池,航空航天,电气,综合

??铺?坩埚真空蒸镀仪

是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。

空蒸发镀膜包括以下基本过程:

1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。

2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。

 

编辑

以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图

 

原样品没有镀膜

 

115A 100秒 机械泵

 

115A 100秒 分子泵抽12分钟

 

115A 120秒 分子泵抽20分钟

真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色

??铺?坩埚真空蒸镀仪 技术参数

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

加热方式

数字式功率调整器

镀膜功能

0-9995段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1200W

输出电压电流

电压≤12V 电流≤120A

真空度

机械泵 ≤5Pa5分钟) 分子泵≤10^-3Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm

样品台

可旋转φ62 (可安装φ50基底)

样品台转速

8/分钟

样品蒸发源调节距离

70-140mm

蒸发温度调节

≤1800℃

支持蒸发坩埚类型

钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳

预留真空接口

KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口

可选配扩展

机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa

数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa

分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa

 




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