MDPmap单晶和多晶硅片寿命测量仪

产品特点

MDPmap被设计成一个紧凑的台式非接触电学表征工具，用于离线生产控制或研发，在稳态或短脉冲激励（μ-PCD）下，在一个宽的注入范围内测量参数，如载流子寿命、光导率、电阻率和缺陷信息。自动化的样品识别和参数设置允许轻松适应各种不同的样品，包括外延层和经过不同制备阶段的晶圆，从原生晶圆到高达95%的金属化晶圆。

详细介绍

产品介绍：

MDPmap：     

单晶和多晶硅片寿命测量设备用于复杂的材料研究和开发。         

特点：        

◇  灵敏度：高的灵敏度，用于可视化迄今为止不可见的缺陷和调查外延层的情况        

◇  测量速度：6英寸硅片<5min，分辨率为1mm        

◇  寿命范围：20ns到几十ms        

◇  污染测定：源于坩埚和设备的金属（铁）污染        

◇  测量能力：从切割好的硅片到加工的样品        

◇  灵活性：固定的测量头可以与外部激光器连接并触发        

◇  可靠性：?？榛徒舸招吞ㄊ揭瞧?，可靠性更高，正常运行时间>99%        

◇  重复性：> 99%        

◇  电阻率：电阻率测绘，无需频繁校准        

技术规格:         

MDPmap 测量案例：

碳化硅外延片（＞10μm）-少数载流子寿命mapping图（平均寿命τ=0.36μs）  

高阻硅片（＞10000Ω·cm）-少数载流子寿命mapping图    

非钝化硅外延片（20μm）-少数载流子寿命mapping图            

MDPmap 应用：
铁浓度测定        

铁的浓度的精确测定是非常重要的，因为铁是硅中丰富也是有害的缺陷之一。因此，有必要尽可能准确和快速地测量铁浓度，具有非常高的分辨率且**是在线的        

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掺杂样品的光电导率测量        

B和P的掺杂在微电子工业中有许多应用，但到目前为止，没有方法可以在不接触样品和由于必要的退火步骤而改变其性质的情况下检查这些掺杂的均匀性。迄今为止的困难……        

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陷阱浓度测定        

陷阱中心是非常重要的，为了了解材料中载流子的行为，也可以对太阳能电池产生影响。因此，需要以高分辨率测量这些陷阱中心的陷阱密度和活化能。        

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注入相关测量        

少数载流子寿命强烈依赖于注入(过剩余载流子浓度)。从寿命曲线的形状和高度可以推断出掺杂复合中心和俘获中心的信息。        

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