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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>湿法腐蚀/刻蚀设备>RIE-400iPB 深硅刻蚀设备

RIE-400iPB 深硅刻蚀设备

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。










冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1. 产品概述

RIE-400iPB是一款电感耦合等离子体放电设备,用于博世MEMS和电子元件工艺中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是为研究和开发目的而改装的。该系统由Robert Bosch GmbH(德国)授权,能够对MEMS和TSV所需的硅进行高速和高各向异性蚀刻。

2. 设备用途/原理

MEMS的制造(加速度传感器、陀螺仪、压力传感器、执行器等)μTAS等医疗设备的加工。

3. 设备特点

可以实现高速硅深孔加工它具有的等离子体源和反应器结构,支持博世工艺,可实现硅的快速深钻。保持速度,减少扇形,通过高速切换气体,可以在保持蚀刻速度的同时减少扇形??梢越?/span>SiO?的蚀刻可以通过更换用ICP线圈来处理SiO?。



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