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wafer size | 8英寸 | Etchant | HF HNO3 CH3COOH |
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treatment unit | 50pcs/barrel | Etching time | 1-999sec |
Rinse time | 0-300sec | Transfer time | Within 2sec |
酸刻蚀机/快速腐蚀机
用途:wafer 的精密酸刻蚀
1、骨架:sus
2、包板:PP/PVC
3、管路:PFA
4、TANK:有
5、供液方式:自动供液;自动补液
6、工艺槽:恒温控制;循环;过滤;
主要介绍:
主体 *Material
*前门材料 铁框架覆盖聚氯乙烯乳白聚氯乙烯透明滑动式
*Exhaust 自动 带淋浴器 背面
*Lighting 荧光灯
*加速和调节器 调节器设置 时间通过触控屏设置 安装 在天花板上
*Diw储罐 300L
料桶和晶圆旋转
*晶圆RPM 10~40RPM ±5%
*桶的转速 晶圆的转速显示在 前操作面板。 通常是一种方式。
*Agitation 上下,行程50mm≥
时间0~30/min
料桶输送系统
* 蚀刻时间 1~999sec
*冲洗时间 0~300sec
*转移时间 2秒内
*腐蚀温度 20 ℃~30℃
*0ver流量 20L/mi