KT-Z1650CVD小型真空热蒸发镀膜机

小型蒸镀仪

KT-Z1650CVD是一款小型台式蒸发功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明玻璃腔体减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

镀膜机晶振片    镀膜膜厚测量晶控片

  石英晶片

  膜厚监测仪 

薄膜厚度监测仪

如何选用最合适的晶振片

(1)镀低应力膜料时，选择镀金晶振片

2)使用镀银或银铝合金镀高应力膜层

3)使用银铝合金晶振片镀介质光学膜

KT-Z1650CVD小型真空热蒸发镀膜机

晶振片工作原理

石英晶体压电效应的固有频率不仅取决

于其几何尺寸，切割类型，而且还取决

于芯片的厚度。当芯片上镀了某种膜层，

使芯片的厚度增大。则芯片的固有频率

会相应的衰减。石英晶体的这个效应是

质量负荷效应。石英晶体膜厚监控仪就

是通过测量频率或与频率有关的参量的

变化而监控淀积薄膜的厚度

膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，利用频率测量技术加上*的数学算法，进行膜厚的在线镀膜速率和实时厚度计算。主要应用于MBE、OLED或金属热蒸发、磁控溅射设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。

KT-Z1650CVD小型真空热蒸发镀膜机

技术支持&服务：

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