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电子束蒸镀设备

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北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队,专精的服务,提供理想的解决方案。

我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向,用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流,打消顾虑,彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。

北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

客户至上的服务理念,以人为本的企业文化,我们始终为用户提供专业的服务!

合作丨共赢,选择我们,选择未来!

 

半导体材料分析,材料刻蚀

应用领域 环保,化工,电子/电池

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电子束蒸镀设备介绍

SYSKEY的電子束沉積是一種實用且高度可靠的系统。我們的系统可針對量產使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發速率,薄膜厚度和均勻度小於+/- 3%。

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电子束蒸镀设备應用領域腔體
  • 光學材料研究(LED/Laser Diode)。

  • 光電元件。

  • 半導體元件。


  • 由304不銹鋼所製成,通過外部焊

    接304不銹鋼管線對腔體進行水冷。

  • 寬大的前開式門,並有兩個視窗和

    視窗遮版用於觀察基材和電子束源。

  • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

配置和優點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達12寸晶圓。

  • 單載片或多載片(2” x 32個,4” x 16個,6” x 6個,8” x 4個)。

  • 優異的薄膜均勻度小於±3%。

  • 具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子

    束源(1/2/4/6坩堝)。

  • 自動鍍膜系統。

  • 具有順序操作或共沉積的多個電子束源。

  • 基板具有冷卻(液態氮溫度低至-70°C)或加熱(溫度最高800°C)等功能。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱

    整合在一起。

  • 結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發源、

    等離子清潔...。






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