金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備
- 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2024/7/10 13:22:07
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磁控濺鍍熱蒸鍍?cè)O(shè)備供應(yīng)金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備價(jià)格
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備
熱蒸發(fā)是物理氣相沉積(PVD)中常用方法,也是PVD簡(jiǎn)單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機(jī)和無(wú)機(jī)薄膜,其中以電阻式加熱法最為常見(jiàn)的。這些蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為它們可以提供一種簡(jiǎn)單的薄膜沉積方法,以電流通過(guò)其容納材料的舟為方式,從而加熱材料。當(dāng)沉積材料的蒸氣壓超過(guò)真空室的溫度時(shí),材料將開(kāi)始蒸發(fā)並沉積到基板上。
SYSKEY金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備的熱蒸發(fā)可以精準(zhǔn)的控制蒸發(fā)速度,且薄膜的厚度和均勻度小於+/- 3%。
離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度,並且離子源在材料沉積過(guò)程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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