MKS ASTRON2L RPS 半导体远程等离子源是经过长期验证的具有优良性能和高可靠性的高性能远程等离子体源，是沉积和蚀刻室清洁工艺的关键子组件，消除了工艺副产物从室壁积聚，增加工艺工具的寿命，并减少薄膜污染的来源。ASTRON Series RPS 广泛应用在半导体各制程的清洁环节中，可以以各种不同的配置安装在硅晶圆或大面积基板工艺室上。ASTRON Series RPS效果良好且更加经济可靠，为CVD室清洁，FPD（平板显示器）提供所需的反应气体室清洁，太阳能室清洁，光刻胶堆灰，氧化，氮化和化学消减。

MKS ASTRON2L RPS 半导体远程等离子源技术参数

设备型号：Astron AX7657-85，P/N 0190-41326W

AC输入： 208V ~，3 phase ~，50/60Hz，30A

散热方式：水冷散热

水冷水压：100 PSIG（Max.）

通信接口：RS-232 / Cust I/O