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UVO-N 臭氧中和器

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

產地類別 國產 應用領域 化工,生物產業(yè),能源,制藥/生物制藥,綜合

一、產品概述:

CIF臭氧中和器系統(tǒng)是一款用于半導體制造和其他工業(yè)應用中的優(yōu)良設備,專門設計用于去除工藝過程中產生的臭氧。該系統(tǒng)利用化學反應將臭氧轉化為無害的氧氣,從而有效降低環(huán)境中的臭氧濃度,確保操作安全和環(huán)境合規(guī)。CIF臭氧中和器具有高效的反應速率和穩(wěn)定的性能,能夠在各種工藝條件下持續(xù)運行。憑借其緊湊的設計和易于集成的特點,CIF臭氧中和器系統(tǒng)廣泛應用于清洗、刻蝕和薄膜沉積等半導體制造環(huán)節(jié),幫助提高生產效率并保護設備和人員安全。

二、設備用途/原理

·設備用途

CIF臭氧中和器系統(tǒng)主要用于半導體制造、化學處理和其他工業(yè)領域,專門用于去除工藝過程中產生的臭氧。它廣泛應用于清洗、刻蝕和薄膜沉積等環(huán)節(jié),以確保操作環(huán)境的安全性和合規(guī)性,保護設備和人員免受臭氧的危害。

·工作原理

該系統(tǒng)通過化學反應將臭氧轉化為無害的氧氣。首先,臭氧氣體被引入中和器,隨后通過催化劑或化學反應介質與臭氧發(fā)生反應。該反應將臭氧分解為氧氣,顯著降低其濃度。CIF臭氧中和器設計緊湊,能夠在各種工藝條件下高效運行,確保臭氧濃度保持在安全水平。該系統(tǒng)的高效性和穩(wěn)定性使其成為現代工業(yè)中的重要設備。

三、主要技術指標:

1.臭氧分解催化劑分解效率大于99%。

2.隔膜泵抽氣效率:10L/min。

3. 電源:220V/50/60Hz/20W。

4. 整機尺寸:280(W)×168(D)×180 (H) mm。

四、產品特點

1.采用無毒,不燃燒、活性高、壽命長的納米金屬氧化物的臭氧分解催化劑,能在室溫狀態(tài)下將高濃度的臭氧快速分解為氧氣。

2. 采用大流量、高負壓、低噪音無刷隔膜泵加速臭氧流動,使得臭氧分解。

3. HEPA高效過濾器應用,有效保護隔膜泵不被催化劑損




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