| 产地类别 | 进口 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,生物产业,能源,建材/家具,电子/电池 |
上海伯东日本*适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却
Hakuto 离子蚀刻机 IBE 主要优点:
1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.
2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.
3. 配置使用美国考夫曼离子源
4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.
5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.
6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.
7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C技术参数:
φ4 inch X 6片 | 基板尺寸 | < Ф3 inch X 8片 |
|
样品台 | 样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转 | ||
离子源 | 20cm 考夫曼离子源 | ||
均匀性 | ±5% for 8”Ф | ||
硅片刻蚀率 | 20 nm/min | ||
温度 | <100 |
可选
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成:
Hakuto 离子蚀刻机通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:.jpg)
采购中心
化工仪器网