用于扫描电镜和透射电镜的离子束镀膜系统

高分解离子束镀膜仪采用*的离子溅镀技术得到连续，超薄，无定形像镀膜样品，非常适用场发射扫描电镜（FESEM）和透射电镜（TEM）的需要。与只能得到粗糙喷镀效果的传统镀膜技术如热蒸镀、电磁管或RF溅镀等相比，具有非常明显的优势。

高分解离子束镀膜仪两束离子源能够提供高速的溅镀速率，根据耙材、离子束强度和镀膜厚度的不同，镀膜时间范围从10秒到2分钟不等。

WhisperlokTM 机械装置能够在装样和换样时保持腔体的真空状态，避免再次抽真空，真正实现“快速换样”（＜1分钟）。另一个重要特点是能够提供不同的样品旋转和摇摆速率，确保样品镀膜均一。
TEM WhisperlokTM 适配器（可选配）适用于所有TEM或SEM侧插样品载台的制造。如果需要，样品可以使用TEM生物冷冻样品载台在较低温度下镀膜。

多重耙材：耙材交换仪器可以在保持真空的情况下极短时间内选择两个可用耙材中的任意一个。增加第二个耙材交换仪器（可选配）即可再增加两个耙材，用户可以同时使用四个耙材中的任意两个。隐藏在腔体内的耙材*与溅射污染物隔离。

Gatan离子束镀膜仪是一台具有便捷、高效以及可靠性特点的精密台式装置。通过它能够得到超细晶粒/非晶及非人工镀膜，能够满足高分辨率场发射电镜的更高要求。样品能够快速镀膜且只产生极小的热量。

可选配的测膜厚度仪（FTM）能够连续测量沉积速率并不断改进控制膜厚度。

规格：
离子源
离子枪 两个潘宁离子枪与微型稀土永磁体
离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV
离子束直径 约1mm FWHM
离子电流密度 峰 10mA/cm2
气体流量 氩气 0.1cc/分/枪

Airlock组装
样品载台 接纳1¼英寸（31mm）金相套和多种SEM短截线
样本旋转速率 可变速率10-60rpm
样品倾斜角度 固定角度或可变摇摆角度（0° - 90°）
样品摇摆速率 可变速率5°/秒 - 36°/秒
选配 用于侧插TEM的TEM适配器或SEM样品载台

镀膜
镀膜速率 10.0KeV下约0.5 Å/秒 碳 及 1.5 Å/秒 铬
镀膜范围 均匀直径超过1英寸
耙材装置 一方双重耙材，可在真空状态下从外直接选择耙材
耙材材质 四种耙材选择（见详细清单）

真空
干燥泵系统 两个部分，隔膜泵搭配一个60 升/秒分子泵
真空计 样品腔冷阴极规，搭配固态压力传感器
样品调换 Gatan WhisperlokTM，样品更换时间＜1分钟
液态氮阀 约5小时容量（标准）

尺寸及功率
总尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H)
货运重量 45kg （100 lbs）
电源要求 通用电压 100VAC-240VAC，50/60Hz
用户需确定电源型号以保证正确的线路
能量消耗 运行时需200瓦特，离子枪关闭时需100瓦特
气体需求 氩气 70psi （4.82 bar）