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EDAX Orbis微束X射線熒光能譜儀

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X射線熒光能譜儀

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美國EDAX公司是世界上Z早生產(chǎn)能譜儀的廠家,是世界的X-射線能譜儀與X-射線熒光分析譜儀的制造廠商。自1962年成立以來,EDAX致力于發(fā)展*的儀器系統(tǒng)及軟件,EDAX技術(shù)在登月計(jì)劃、發(fā)展新型合金、研究超導(dǎo)體以及破譯人類基因等項(xiàng)目中發(fā)揮著重要的作用。
    EDAX公司的產(chǎn)品自七十年代初進(jìn)入中國市場(chǎng),至今已有數(shù)百家用戶。包括眾多高等院校、各科研機(jī)構(gòu)和其他各種單位。EDAX產(chǎn)品的優(yōu)異性能已得到廣大中國用戶的認(rèn)可。2001年EDAX公司成為AMETEK集團(tuán)公司的下屬成員。2002年EDAX迎來了公司40周年大慶,并推出新一代能譜儀、高精度自動(dòng)聚焦波譜儀。 
 
  

1.GENESIS X射線能譜儀(EDS, EDX)2.電子背散射衍射分析系統(tǒng) EBSP/OIM (EBSD)3.LEXS/TEXS新型高精度自動(dòng)聚焦波譜儀 (WDS, WDX)4.TEM 自動(dòng)晶體學(xué)分析系統(tǒng) ACT/TOCA
5.EAGLE III X射線微探針熒光能譜儀 (XRF)

價(jià)格區(qū)間 面議 行業(yè)專用類型 通用
儀器種類 臺(tái)式/落地式

EDAX Orbis微束X射線熒光能譜儀靈活易用,為所有的微束熒光能譜應(yīng)用提供的性能。Orbis采用視頻與X射線同軸的設(shè)計(jì),提供2mm至30μm的光斑尺寸,可方便地分析各種樣品,不僅可以分析顆粒和碎片等小樣品,而且可以分析表面粗糙的大塊樣品,具有XRF分析的所有優(yōu)點(diǎn)和便利性。

EDAX Orbis微束X射線熒光能譜儀配有自動(dòng)塔輪,通過塔輪將視頻和X射線光學(xué)器件集成在一起,允許同軸的樣品觀察和XRF分析。這種幾何設(shè)計(jì)提高了樣品定位精度,消除了光束遮擋和陰影。光學(xué)塔輪上還可以增加兩個(gè)X-射線準(zhǔn)直器以分析較大的樣品區(qū)域。另外,Orbis提供多種可選的X射線光學(xué)器件,可以在入射束上使用濾波片,提供了真正的微區(qū)XRF分析能力。Orbis增加了工作距離,可以分析粗糙的樣品,并且不損失信號(hào)強(qiáng)度。

應(yīng)用
● 刑事司法 碎片、槍擊殘留物(GSR)、墨水、染料和痕量物證
● 工業(yè)質(zhì)量控制和失效分析 金屬磨損碎屑、污染物鑒定、腐蝕分析、材料鑒定、藥品和包裝物
● 無損檢測(cè) 博物館文物、紙質(zhì)文件和寶石鑒定
● 材料 金屬、玻璃、陶瓷、水泥、混凝土和催化劑
● 電子設(shè)備 RoSH、涂層厚度與成分和焊點(diǎn)
● 地質(zhì)樣品

主要特點(diǎn)
● 大氣或真空條件下,針對(duì)無機(jī)元素的無損檢測(cè)
● 無需樣品制備 樣品無需鍍膜
● 相比SEM/EDS,對(duì)重元素有更高的靈敏度
● 多個(gè)光斑尺寸可選,小可到30微米   
● 視頻與X射線同軸設(shè)計(jì),消除了光束遮擋和陰影   
● 大面積SDD探測(cè)器,進(jìn)一步提高靈敏度(選項(xiàng))   
● 樣品觀察窗快速觀察樣品位置(選項(xiàng)) 

產(chǎn)品規(guī)格
Orbis
● 300或100微米單級(jí)毛細(xì)管X射線光學(xué)器件
● 兩種CCD視頻圖像:10×和100×
● 精確的XYZ三軸自動(dòng)樣品臺(tái)

Orbis PC
● 30微米多級(jí)毛細(xì)管X射線光學(xué)器件
● 兩種CCD視頻圖像:10×和75x,并帶有三倍數(shù)字放大功能
● 高精確XYZ三軸自動(dòng)樣品臺(tái)

標(biāo)配軟件
● 定性和定量分析,包括FP建模和半經(jīng)驗(yàn)定量
● 自動(dòng)多點(diǎn)分析 多達(dá)20,000點(diǎn)的無人值守采樣分析



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