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Minilock-Orion III PECVD PECVD沉積

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公司名稱 德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
品牌
型號(hào) Minilock-Orion III PECVD
產(chǎn)地 美國(guó)
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2024/6/17 16:46:47
訪問(wèn)次數(shù) 2655

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薄膜沉積 PECVD沉積

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FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國(guó)公司?；?/span> “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”成為三位博士追逐的夢(mèng)想。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家，科學(xué)開創(chuàng)美好未來(lái)。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域，始終秉承“前沿、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨，將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實(shí)驗(yàn)室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程；材料科學(xué)的檢測(cè)、分析；生命科學(xué)成像，腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商，FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng)，能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費(fèi)電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu)。

在成長(zhǎng)的過(guò)程中，我們腳踏實(shí)地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來(lái)，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。

我們真誠(chéng)邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢(mèng)想揚(yáng)帆起航！

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　　PECVD沉積

　　Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm，且根據(jù)電極配置，可以處理單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。

　　Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、無(wú)定形硅和碳化硅。工藝氣體：100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、*基硅烷和甲烷。

　　該系統(tǒng)可選配一個(gè)三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。

　　基片通過(guò)預(yù)真空室裝入工藝室，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶的安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕。

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在成長(zhǎng)的過(guò)程中，我們腳踏實(shí)地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來(lái)，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。

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