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化工仪器网>产品展厅>实验室常用设备>其它实验室常用设备>镀膜机>AGS TT-RIE Bench-Top Plasma Tool (薄膜沉积)

AGS TT-RIE Bench-Top Plasma Tool (薄膜沉积)

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


First-Nano System GmbH 

  • 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

  • 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统(深圳)有限公司,更好的为中国南方区市场

     

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more ?。?!

 

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等离子清洗机,均胶机,薄膜沉积,刻蚀

AGS Plasma Systems, Inc.

Now Celebrating Our 25th year!

 

    美国AGS公司成立于1991年,在等离子系统领域已有25年的历程,是一家历史悠久的等离子系统供应商,提供的真空等离子系统主要应用于图案转换中薄膜沉积,刻蚀,如微电子,MEMS,光伏,光电,纳米科技等行业领域。

 

 

2012年Semicon West ,AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE/CVD 系统,非常经济实用,对世界各地大学,研究所来说这样如此特色的RIE和CVD应用是非常*的。
  • 模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。

  • AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征

  • RIE,PECVD,和等离子刻蚀PE都能在一个易操作,低维护,实用简单的平台上实现,同时可以根据您的工艺要求升级您的需求

  • 当您需要更换工艺技术是,腔体的部件,材料,进气装置提供更多的工艺扩展

  • AGS依靠公司丰富的经验为新工艺开发提供低成本的*的技术资源便于提前研发*的领域技术

  • 桌面式,占地面积小,节省实验室空间

  • 工艺控制简单,易于使用者操作

  • 兼容等离子刻蚀PE和PECVD,成本低?

      

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