产品型号

VTC-600-2HD

安装条件

1、工作台需要：尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm，承重 200kg 以上。

2、水：需求：随机标配 KJ-5000 自循环冷水机（加注纯净水或者去离子水）。

3、气：需氩气（纯度≥99.99%），自备氩气瓶（自带?6mm 双卡套接头）及减压阀。

4、通风装置：使用现场需通风（必要时可自行加装换气装置）。

5、供电源：单相：AC220V 50Hz 国标 10A 插座，必须有良好接地，前端需加装 16A 空气开关。

6、现场环境：要求：温度 25℃±15℃，湿度 55%Rh±10%Rh 以下，干燥无尘，无易燃易爆气体。

主要参数

真

空

系

统

真空室尺寸

φ295×高265mm

备注说明

真空泵组

分子泵：Hipace80 涡轮泵

前级泵：MVP015-2DC 隔膜泵

浦发（Pfeiffer）

本底真空度

5.0E-3Pa(5.0E-5hPa)

沉积前基础真空要求

极限真空度

5.0E-4Pa(5.0E-6hPa)

受现场环境等因素影响

工作压力

0.1~5Pa(0.001~0.05hPa)

氩气为主，反应气体比例添加

抽速

前级泵：1m3/h

分子泵：67l/s

影响抽真空时间

电

源

配

置

溅射电源

类型/数量

DC（直流）：1台

RF（射频）：1台

DC：金属靶 RF：绝缘靶

（搭配电源类型可选配）

输出功率

范围

DC：0~500W

RF：0~300W

功率输出模式

MAX输出功率

匹配阻抗

50Ω

确保功率传输效率

气

体

控

制

工作气体

标配：氩气（Ar）

建议使用：Ar 纯度 99.999%

氩气流量

(2路输入）

1路：1~100sccm

1路：1~200sccm

注：如需要通入其它类型保

护气体可定制

流量计精度

±1%F.S.

/

旋

转

样

品

台

样品台尺寸

Φ132mm

≈5.2英寸

样品台转速

1~20rpm

提升膜厚均匀性

加热温度

RT~500℃

样品台表面温度值

控温精度

±1℃

/

磁

控

溅

射

靶

磁控靶数量

2个

可独立、可同时使用

靶材尺寸

φ2寸 厚度0.1-5mm

靶材材质不同厚度有所不同

靶基距

85~115mm可调

当距离↑增大、→厚膜均匀

性↑增高，沉积速率↓下降。

冷却方式

水冷

冷却水循环靶头降温

沉

积

性

能

与

其

它

参

数

厚膜均匀性

±5%（φ100mm基片）

靶基距和转速优化关键

极限膜厚

10nm~10um

过厚易应力开裂

输入功率

MAX:主机 500W/射频电源 1100W/直流电源 750W

注：主机、射频电源、直流电

源及膜厚仪均为独立供电！

输入电源

单相：AC220V 50/60Hz

主机尺寸

600mm×750mm×900mm

注：开盖高度为1050mm

整机尺寸

1300m×750mm×900mm

注：开盖高度为1050mm

整机重量

160kg

注：不含水冷机组