產品介紹：P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)

P-I等離子表面活化處理系統(tǒng)是一款業(yè)內使用zui多的，集等離子清洗、等離子刻蝕（Plasma Etching）、反應離子刻蝕（RIE）為一身的多功能。 目前在世界各地的許多不同領域均有該款在運行之中。 例如，P-1被發(fā)現被廣泛用于醫(yī)療、半導體、電子，PCB（印刷電路板）、工業(yè)制造和太陽能電池領域。P-1是一款真正杰出的等離子表面處理系統(tǒng)設備。

P-1可在兩種*的等離子處理模式下運行：

1）普通等離子處理模式：等離子清洗機、等離子刻蝕機模式；
2）RIE反應離子刻蝕處理模式： -反應離子刻蝕（RIE）的等離子體處理模式；

P-1縱覽
對于批量等離子表面處理的好處是更好的附著力或打標，更清潔的部件；而使用更少的勞動力和化學品費用減少，無需消除不受歡迎的化學廢物而花費昂貴的處理的清理和涂刷費用。 較大的鋁質真空艙可容納一個寬大需要活性等離子表面清洗的工件；標準配置包括5套等離子處理工件架，可提供13600平方厘米（cm²）的可用等離子處理加工區(qū)。

P-1標準配備觸摸屏控制，這使得控制處理非常容易，因為程序或參數被保存，以備將來使用。可以很容易地保持生產和運行在一個標準的、用戶友好的自定義軟件和程序之中，P-1操作非常容易。更加客戶配置定制電極，以滿足不同產品工件的大小和間距的要求，而不收取額外費用。

P-1特點

直觀且簡單易用的觸摸屏界面控制每一個等離子清洗過程的環(huán)節(jié)，從而確保可靠性和可重復性。

P-1控制臺結構緊湊，從而占用很小的空間。真空泵浦系統(tǒng)提供特別準備的真空泵，可與氧氣服務。 真空泵系統(tǒng)配以兩點氮氣（N2）吹掃系統(tǒng)，以減輕腐蝕性副產品在真空泵浦系統(tǒng)中的產生，從而延長了真空泵浦系統(tǒng)的使用壽命和降低使用鹵化氣體系統(tǒng)的維護周期。

P-1真空艙及電極可按客戶配置定制，以滿足客戶對的要求;，如 RIE（反應離子刻蝕）、半導體引線框架盒、水平和垂直旋轉電極。

P-1規(guī)格

標準P-1配置
鋁合金真空艙：63.50 cm 寬  x  63.50 cm深  x 53.00高
電極設置：五套 51.00cm  X 53.00cm水平電極，每套電極板間隔7.6cm
射頻電源：600瓦@13.56MHz射頻電源;自動匹配器網絡  
工藝氣體控制：單套500 SCCM質量流量控制器 （MFC）
真空監(jiān)測系統(tǒng)：皮拉尼真空計0-1托
控制器系統(tǒng)：微處理器系統(tǒng)，配備觸摸屏界面
工藝程序存儲功能：可存儲多達20個雙步驟程序
真空泵浦系統(tǒng)：29 CFM氧氣服務真空泵系統(tǒng)，配備油霧分離器

可選配P-1配置
靜電屏蔽；
工藝溫度控制；
1250瓦@13.56MHz 射頻電源；
59 CFM氧氣服務真空泵系統(tǒng)；
355 CFM真空增壓機；
RIE（反應離子刻蝕）電極配置；
低供應壓力氣體報警器；
微軟計算機控制系統(tǒng)，配備觸摸屏接口；
直觀的等離子體刻蝕操作軟件，具備數據報告、事件監(jiān)控、打印功能；
信號燈塔、活躍真空控制器、 4套質量流量控制器（MFC）；
自動兩點氮氣（N2）真空泵吹掃、真空艙氮氣（N2）吹掃速度控制；
真空泵排氣油霧凝聚式過濾器
其它按客戶需求定制的真空艙及電極設置；

其它可選配配置
閉環(huán)式射頻電源冷卻器
填充床煙氣洗滌器
壓縮空氣干燥機（吹掃氣體發(fā)生器）

P-1規(guī)格
重量：約 550公斤
真空泵浦重量：約70公斤
占地尺寸：180 cm  X  92cm  X 82cm
真空泵浦占地尺寸：41cm X 77cm X 44cm

P-1設備外部安裝要求
電源：交流，3相30安培，
壓縮空氣：0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
系統(tǒng)環(huán)境溫度：29攝氏度
工藝氣體壓力：0.10 MPa

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