手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
儀器優(yōu)選APP
官方微信
公眾號：chem17
-
化學氣相沉積2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：化學氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空......
我要詢價 -
PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 2002025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB200根據(jù)其模塊化設(shè)計，PECVDDepolab200可升級為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。......
我要詢價 -
帶預(yù)真空室的化學氣相沉積設(shè)備SI 500 PPD2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：帶預(yù)真空室的化學氣相沉積設(shè)備SI500PPD的特色是預(yù)真空室和干泵裝置，用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學氣相沉積過程。......
我要詢價 -
等離子沉積設(shè)備SI 500 D2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：等離子沉積設(shè)備SI500D低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應(yīng)力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能......
我要詢價 -
化學氣相沉積系統(tǒng)2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI500PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相沉積工藝。......
我要詢價 -
沉積系統(tǒng)2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/......
我要詢價 -
SENTECH二維材料刻蝕2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。......
我要詢價 -
原子層沉積設(shè)備2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：原子層沉積設(shè)備：真遠程等離子體源能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或......
我要詢價
