一、设备简介
该真空箱式炉系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30 段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。炉体采超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或其他真空机组，非常适合于试验和小批量生产之用。
该设备为密封式加热腔体,确保设备可在真空条件下,或者一些特殊气氛条件下使用，相比普通箱式炉，使用环境更灵活，使用范围更广泛。
二、技术参数
型号 | LFM1200C 7.2VC |
额定功率 | 4KW |
额定电压 | AC 220V 单相 |
最高温度 | 1200℃ |
额定温度 | ≤1100℃ |
升温速率 | 10℃/min |
控温精度 | ±1℃ |
控温方式 | 模糊 PID 程序控温（30段程序控温） |
热电偶型号 | K 型 |
加热元件 | 电阻丝 |
设备重量 | 200KG |
外型尺寸（长×深×高） | 660*830*1100mm |
炉膛尺寸（W*D*H） | 300*200*120mm |
炉膛容积 | 7.2L |
空气开关 | 25A |
冷态极限真空 | ≤100-400Pa |
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