钙钛矿量子点（PQDs）作为一种新兴的半导体纳米材料因其优异的光电性能受到广泛关注，如高光致发光量子产率 （PLQY接近100%）、窄半峰宽（FWHM<30 nm）、波长可调（覆盖可见光范围）、抗光漂白等特点，在生物成像、背光显示、LED、激光、防伪等领域具有广阔的应用前景。图案化是推动钙钛矿量子点在显示及防伪等领域应用的关键步骤。然而，由于钙钛矿量子点固有的离子特性，其对水、氧及紫外光非常敏感，在外界环境刺激下易降解成不发光的物质，阻碍了其实际应用。常规的图案化方法如自组装、光刻或打印等会导致钙钛矿量子点尺寸增大、量子产率降低、稳定性下降，这主要是由反复暴露于紫外线辐射、加热和溶剂清洗造成的。因此，为了推动钙钛矿量子点在光电领域的实际应用，亟需探索一种通用的图案化策略，以制备具有高稳定性、可控形态以及可与刚性或柔性基底集成的钙钛矿量子点图案。