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深圳市矢量科學儀器有限公司

深硅刻蝕機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號HSE系列

品牌北方華創(chuàng)

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2025-06-06 14:57:46瀏覽次數(shù):1312次

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深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結構布局,能夠減小占地,提升產(chǎn)能。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區(qū)部件、電源柜等組成??蓪崿F(xiàn)自動化地上下料及自動工藝。HSE M200主要用于4/6/8英寸深硅干法刻蝕工藝??梢耘渲檬謩蛹白詣觽鬏斚到y(tǒng)。產(chǎn)品配置高密度雙立體等離子體源,中心邊緣進氣,快速氣體切換,低頻脈沖下電極系統(tǒng),可以實現(xiàn)高速、高深寬比及極小的側壁粗糙度。

1.產(chǎn)品概述:

HSE M200主要用于4/6/8英寸深硅干法刻蝕工藝??梢耘渲檬謩蛹白詣觽鬏斚到y(tǒng)。產(chǎn)品配置高密度雙立體等離子體源,中心邊緣進氣,快速氣體切換,低頻脈沖下電極系統(tǒng),可以實現(xiàn)高速、高深寬比、高均勻性及極小的側壁粗糙度。HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結構布局,能夠減小占地,提升產(chǎn)能。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區(qū)部件、電源柜等組成??蓪崿F(xiàn)自動化地上下料及自動工藝。

2.設備應用

  HSE M200

晶圓尺寸:

8英寸及以下

適用材料:

硅、SOI、SOG

適用工藝:

深硅刻蝕

適用領域:

微機電系統(tǒng)、科研領域

 

HSE P300

晶圓尺寸:

8/12英寸兼容

適用材料:

硅、氧化硅、氮化硅

適用工藝:

深槽刻蝕、深孔刻蝕、扇出型封裝硅載體刻蝕、露銅刻蝕等

適用領域:

先進封裝

 

 3.設備特點

HSE M200

雙等離子源和雙區(qū)進氣,保證高刻蝕均勻性和高刻蝕速率

兼容性強,工藝種類多樣,應用領域廣泛,系統(tǒng)可靠性強

靈活的系統(tǒng)配置,適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應用

低擁有成本和運營成本

HSE P300

使用立體高密度等離子源,大幅提升刻蝕速率

雙等離子源和雙區(qū)進氣,確保較高的均勻性

全自動化軟件控制,高產(chǎn)能

低擁有成本和運營成本


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