CA20旨在以最高分辨率提供2D和3D圖像，它允許對(duì)微米級(jí)細(xì)節(jié)進(jìn)行最快的檢測(cè)，并有助于縮短復(fù)雜3D IC的上市時(shí)間。

CA20亮點(diǎn)

· 專為半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)計(jì)

· 無(wú)損技術(shù)可在幾分鐘內(nèi)對(duì)焊料凸點(diǎn)進(jìn)行三維洞察

· 通過(guò)可靠和準(zhǔn)確的技術(shù)獲得可重復(fù)的結(jié)果，旨在支持穩(wěn)定的檢測(cè)程序

· 高效的軟件輔助審查，包括使用 Void Insights 進(jìn)行自動(dòng)空隙分析

· 用于保護(hù) X 射線敏感組件的劑量管理器

使用 3D X 射線加快工藝開發(fā)，雖然使用破壞性方法進(jìn)行檢測(cè)可能需要數(shù)周時(shí)間，但3D X射線可以為您的研發(fā)工程師提供他們可以立即使用的結(jié)果。作為一種無(wú)損檢測(cè) （NDT） 系統(tǒng)，CA20 可在幾分鐘內(nèi)為您的 IC 內(nèi)部提供納米細(xì)節(jié)的清晰 3D 圖像。監(jiān)控您的互連過(guò)程，快速發(fā)現(xiàn)缺陷，并將您的見解反饋到該過(guò)程中。

識(shí)別關(guān)鍵的先進(jìn)封裝缺陷，3D X 射線可產(chǎn)生高分辨率的 3D 體積，使制造商能夠在創(chuàng)紀(jì)錄的時(shí)間內(nèi)測(cè)量和檢查凸塊并識(shí)別出最小的缺陷。查看關(guān)鍵缺陷，例如非濕性、頭部在枕中或顛簸移位，并確定支架高度，以前沒有的方式監(jiān)控模具傾斜或翹曲。

CA20型

系列：加利福尼亞州

工業(yè)：先進(jìn)封裝， 半導(dǎo)體， 電子， 科學(xué)與研究

缺陷尺寸：<1 μm、<50 μm、<1 mm

產(chǎn)品尺寸： <435 mm

操作模式：3D X射線，2D / 3D

CA20檢測(cè)在研發(fā)和生產(chǎn)中的應(yīng)用

基板上的芯片，包括扇出封裝、焊接連接（C4 凸點(diǎn)和銅柱）

2.5 和 3D IC 封裝焊接連接，包括微凸塊

基板條焊料凸點(diǎn)

傳感器

MEMS和MOEMS