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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>3 CVD>> PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學氣相沉積

等離子增強化學氣相沉積

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號PlasmaPro 100 Nano

品牌OXFORD/英國牛津

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2025-06-05 17:20:43瀏覽次數(shù):317次

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PlasmaPro 100 Nano
用于生長1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活化和嚴格的工藝控制,實現(xiàn)納米材料的高性能生長。
  • 更佳的均勻性以及靈活的溫度范圍, 最高可達1200°C

  • 700°C、800°C或1200°C工作臺可供選擇

  • 樣品尺寸可達200mm

  • 真空傳送腔——快速更換樣品

  • 冷壁設(shè)計并輔以可均勻輸送氣體/液體源前驅(qū)體的噴頭

  • 可選的液體/固體源前驅(qū)體輸送系統(tǒng),用于生長MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料

應(yīng)用:

  • 二維材料 生長

  • MoS2 生長

  • 石墨烯 生長

  • 一維材料 生長

  • 碳納米管(CNT)生長

  • 氣柜 —— 包含額外的氣體管線,提供更大的靈活性

  • 渦輪分子真空泵 —— 提供泵送速度加快氣體的流動速度

  • 光學終點探測—— 實現(xiàn)更好工藝結(jié)果的重要工具

  • TEOS液位傳感 —— 使用安裝在TEOS罐上的超聲波液位傳感器實現(xiàn)液位傳感




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