1. 產(chǎn)品概述
PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設(shè)備。可大對(duì)應(yīng)φ 150mm。活性化退火設(shè)備?是一種專門(mén)用于半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)設(shè)備，它屬于退火爐的一種，用于加熱半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。退火爐在半導(dǎo)體器件制造中扮演著重要的角色，通過(guò)加熱晶片來(lái)激活摻雜劑、轉(zhuǎn)換薄膜形態(tài)、修復(fù)注入損傷等，從而改善半導(dǎo)體的電氣性能。這種設(shè)備通常具有節(jié)能型周期式作業(yè)爐結(jié)構(gòu)，采用超節(jié)能設(shè)計(jì)和纖維結(jié)構(gòu)，以實(shí)現(xiàn)高效節(jié)能。此外，活性化退火設(shè)備還能夠集成到其他爐子處理步驟中，如氧化處理，或者獨(dú)立進(jìn)行處理，以滿足不同的工藝需求。
2. 設(shè)備用途/原理
SiC功率器件用。研究開(kāi)發(fā)。量產(chǎn)用。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
大可對(duì)應(yīng)φ150mm基板。大可加熱2000℃。高真空對(duì)應(yīng)。單批次25片一次性處理（也有5片處理機(jī)）
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