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平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm）

平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm）

制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試?？虅?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

75l/mm @10.6μm

100l/mm @10.6μm

150l/mm @10.6μm

300l/mm @300nm

300l/mm @500nm

300l/mm @1000nm

300l/mm @3.5μm

450l/mm @3.1μm

600l/mm @250nm

600l/mm @300nm

600l/mm @400nm

600l/mm @500nm

600l/mm @750nm

600l/mm @1000nm

600l/mm @1250nm

600l/mm @1600nm

1200l/mm @250nm

1200l/mm @300nm

1200l/mm @400nm

1200l/mm @500nm

1200l/mm @750nm

1200l/mm @1000nm

1800l/mm @500nm

特征

制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試?？虅?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃?？叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試?？虅?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃?？叹€的平行度和位移必須精控制。