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一、概述

SE-m 是一款針對半導體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量的專用型光譜橢偏儀，其采用 1  超小微光斑探測測量技術(shù)， 2 定制超快測量速度等技術(shù)?？蓱?yīng)用透明各類襯底上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量，適用于微區(qū)圖形的各種光學參數(shù)解析。

二、特色功能

■ 可定制光斑尺寸，最小可達30um；

■ 超快測量，單次測量時間小于0.5秒 ；

■ 系列配置靈活，支持功能定制設(shè)計；

■ 結(jié)構(gòu)緊湊，更適應(yīng)在線集成測量。

三、測量實例

微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量

四、應(yīng)用場景 

應(yīng)用于光學常數(shù)測量，適用于各類光學薄膜等鍍膜檢測應(yīng)用。