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目录:郑州科探仪器设备有限公司>>材料样品处理>>小型溅射仪>> KT-Z1650PVD桌面式小型溅射仪

桌面式小型溅射仪

  • 桌面式小型溅射仪
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
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  • 品牌 属性

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更新时间:2024-03-27 15:04:05浏览次数:1850评价

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靶材材质 金 铂 铜 银 等 靶材尺寸 50mm
产地类别 国产 价格区间 面议
溅射气体 根据需求通气 控制方式 触摸屏智能控制
样品仓尺寸 φ160x160mm 样品台尺寸 50mm
应用领域 化工,电气
桌面式小型溅射仪KT-Z1650PVD磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。

桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD

传统的溅射技术的工作原理是:在高真空的条件下,入射离子(Ar+)在电场的作用下轰击靶材,使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面,沉积在基片表面形成薄膜。但是,电子会受到电场和磁场的作用,产生漂移,因而导致传溅射效率低,电子轰击路径短也会导致基片温度升高,为了提高溅射效率,在靶下方安装强磁铁,中央和周圈分别为NS极。电子由于洛伦兹力的作用被束缚在靶材周围,并不断做圆周运动,产生更多的Ar+轰击靶材,大幅提高溅射效率,如图所示,采用强磁铁控制的溅射称为磁控溅射。

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桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD厂家供应技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口



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