半導體用電子級純酸提純裝置硝酸純化系統(tǒng)

酸純化器：又稱酸純化系統(tǒng)，高純酸提純器，酸試劑提純器，高純酸蒸餾純化器等，實驗室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結(jié)果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于較貴，很難滿足日常分析中對酸的大量需求。因此，提純優(yōu)化酸的質(zhì)量，是為經(jīng)濟可行的途徑，我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化，純化后的酸和Merck的一樣好，實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。

二、工作原理：

酸純化器是利用熱輻射原理，保持液體溫度低于沸點溫度蒸發(fā)，再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑，應(yīng)用于樣品處理及分析實驗中。

三、  產(chǎn)品特點：

1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實驗室級超純酸，所用容器均采用Teflon無吸附塑料，可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。

2、實驗證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后，金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高，可增加提純次數(shù)。

半導體用電子級純酸提純裝置硝酸純化系統(tǒng)

四、使用注意事項：

1、所有配件（控制器、電源線、加熱片等除外）放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡，去除雜質(zhì)。

2、加酸前必須做好個人防護如：防濺眼鏡、防酸手套等（蒸水除外）。

【電子級酸】：

適用于半導體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析，根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量，劃分為4個級別：MOS級，VLSI級，ULSI級，SLSI級

MOS級（EL級）：控制十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右

VLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb

ULSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下

SLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下

所謂的電子級酸，其實就是ppb或者ppt級的高純酸。