賽默飛ICP-MS是獲得認可的痕量元素分析和定量的技術(shù)。 其應(yīng)用范圍從半導體工業(yè)到地質(zhì)和環(huán)保分析、從生物研究到材料科學。賽默飛ICP-MS嚴重的限制是元素信號的多原子干擾，這種干擾主要來自氬或樣品基質(zhì)。 高質(zhì)量分辨率是識別和消除干擾的蕞佳標準。 即使沒有樣品制備步驟，消除干涉也能準確可靠地進行痕量級多元素定量分析。
多元素分析：
1、多元素檢測器具備處理瞬態(tài)信號的速度。
2、從超痕量到基質(zhì)組分、從mg/L到亞pg/L濃度范圍的覆蓋周期表的無干擾測量。
3、與無機和有機固體以及幾乎所有溶液基質(zhì)兼容。
全自動的常規(guī)分析：
1、自動調(diào)節(jié)所有參數(shù)，包括透鏡、氣流和炬位，以獲得可重復而可靠的系統(tǒng)設(shè)置。
2、全面、可定制的質(zhì)量控制系統(tǒng)。
3、可靠耐用，可作為全年無休的生產(chǎn)控制工具，蕞大化樣品通量。
具有靈活性和易用性的先進研究工具：
1、擁有權(quán)限進入方法開發(fā)的所有儀器參數(shù)。
2、具有高質(zhì)量分辨率，可識別受干擾的同位素光譜： 生成明確的元素光譜。
3、無論是否存在干擾情況，也能獲得高精度的同位素比檢測。
4、熱和冷等離子體狀態(tài)。
5、高穩(wěn)定性的同位素比。
1、符合人機工效學設(shè)計的賽默飛ICP-MS，其所用空間甚至小于一些AAS系統(tǒng)。
2、創(chuàng)新的保護性離子提取技術(shù)和Infinity II型離子透鏡技術(shù)，以chicane離子偏轉(zhuǎn)裝置的六極桿設(shè)計為基礎(chǔ)，提供蕞低的背景噪聲。
3、用戶可互換Xt接口和Xs接口。
4、離子透鏡設(shè)計使簡單的場升級到碰撞反應(yīng)池技術(shù)性能，不會影響到正常靈敏度或背景。
賽默飛ICP-MS
5、高性能四級桿分析器所需的高真空系統(tǒng)由一個全新的分流式渦流分子泵后接一個機械泵提供。
6、Peltier冷卻和第三代碰撞反應(yīng)池技術(shù)選項提供增強的性能，使具有碰撞反應(yīng)池功能的賽默飛ICP-MS儀器獲得出色的信號/背景。
7、泵系統(tǒng)可以使用稀釋的反應(yīng)氣體，如7% 氫氣/氦氣混合氣H2或1%氨氣/氦氣混合氣用于CCT模塊中，而非使用未稀釋的氫氣H2或氨氣以減少腐蝕問題，提高可靠性和安全性。
8、同時型模擬/脈沖檢測器以及其實時的多通道電子學系統(tǒng)提供了大于8個量級的動態(tài)線性范圍，使得儀器能夠同時適應(yīng)穩(wěn)定信號和瞬時信號分析。
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